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Transphorm TP65H150G4LSG-TR
Hersteller Modell :TP65H150G4LSG-TR
Hersteller :Transphorm
Dasenic Modell :TP65H150G4LSG-TR-DS
Dokument : TP65H150G4LSG-TR Dokument
Kundenanpassung :
Beschreibung : 650 V 13 A GAN FET
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TP65H150G4LSG-TR Informationen
Transphorm TP65H150G4LSG-TR technische Spezifikationen, Attribute, Parameter.
- Kategorie:Discrete Semiconductor Devices/Transistors - FETs, MOSFETs - Single
- Produktstatus:Active
- Betriebstemperatur:-55°C ~ 150°C (TJ)
- Montagetyp:Surface Mount
- Verpackung/ Koffer:2-PowerTSFN
- Technologie:GaNFET (Gallium Nitride)
- Gerätepaket des Lieferanten:2-PQFN (8x8)
- Verlustleistung (max.):52W (Tc)
- F E T- Typ:N-Channel
- F E T- Funktion:-
- Drain- Source- Spannung ( Vdss):650 V
- Strom – Dauerentladung ( Id) bei 25 ° C:13A (Tc)
- R D S ein (max.) bei I D, V G S:180mOhm @ 8.5A, 10V
- Vgs(th) ( Max) @ Id:4.8V @ 500µA
- Gate- Ladung ( Qg) ( Max) @ Vgs:8 nC @ 10 V
- Eingangskapazität ( Ciss) ( Max) @ Vds:598 pF @ 400 V
- Antriebsspannung ( Max. Rds On, Min. Rds On):10V
- Vgs (max.):±20V
- EU RoHS-Status:ROHS3 Compliant
- MSL-Bewertung:3 (168 Hours,30°C/60%RH)
- US-ECCN:EAR99
- HTS USA:8541.29.0095
- REACH-Status:REACH is not affected
- China RoHS-Status:Green Symbol: Green and environmentally friendly product
TP65H150G4LSG-TR bereitgestellt von Transphorm
Transphorm wurde 2007 gegründet und ist ein globales Halbleiterunternehmen, das die GaN-Revolution mit den leistungsstärksten und zuverlässigsten GaN-Geräten für Hochspannungs-Stromumwandlungsanwendungen anführt. Um dies zu gewährleisten, setzt Transphorm seinen einzigartigen vertikal integrierten Geschäftsansatz ein, der das erfahrenste GaN-Entwicklungsteam der Branche in jeder Entwicklungsphase nutzt: Design, Herstellung, Geräte- und Anwendungsunterstützung. Dieser Ansatz, der durch eines der größten IP-Portfolios der Branche mit über 1000 Patenten unterstützt wird, hat die einzigen JEDEC- und AEC-Q101-qualifizierten GaN-FETs der Branche hervorgebracht. Die Innovationen von Transphorm bringen Leistungselektronik über die Grenzen von Silizium hinaus und erreichen über 99 % Effizienz, 40 % mehr Leistungsdichte und 20 % niedrigere Systemkosten – und so machen wir das.
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